Seu fornecedor profissional de UV de 126 nm
A Shenzhen Lights Technology Co. foi fundada em março de 2012. A equipe de P&D da empresa está envolvida na indústria de telas RGB e UV há mais de 15 anos. Empregamos mais de 120 funcionários e engenheiros qualificados, incluindo especialistas seniores da China e do exterior. Com um investimento inicial de 10 milhões de RMB, mantemos uma forte capacidade técnica e uma produção estável para apoiar o fornecimento confiável e a qualidade consistente do produto.
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Máquina Excimer LaserA máquina excimer laser, como representante-de última geração de nossa linha de produtos de lâmpadas UV, se destaca na fabricação de semicondutores, processamento de dispositivos médicos,
por que nos escolher
Capacidade de produção avançada
Quatro linhas de produção automatizadas e 36 máquinas de posicionamento de alta-velocidade oferecem suporte à fabricação eficiente, escalonável e de alta{2}}precisão.
Garantia de qualidade
Cada lote vem com um relatório de inspeção detalhado, garantindo transparência e confiança aos compradores globais.
Mercados de vendas
Os produtos são vendidos em mais de 80 países na Europa, América, Médio Oriente, África e Sudeste Asiático, apoiados por uma rede completa de vendas e serviços.
Capacidade de solução personalizada
Analisamos o cenário de aplicação e o objetivo de negócios de cada cliente para projetar soluções personalizadas que ofereçam máximo valor e eficiência.
Os lasers Excimer são uma família de lasers pulsados que operam na região ultravioleta do espectro. A fonte da emissão é uma descarga elétrica rápida em uma mistura de alta pressão de um gás raro (criptônio, argônio ou xenônio) e um gás halogênio (flúor ou cloreto de hidrogênio). A combinação específica de um gás raro e halogênio determina o comprimento de onda de saída e, na maioria dos lasers excimer comerciais, o comprimento de onda pode ser alterado recarregando o laser com a combinação de gás apropriada.
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Categoria de parâmetro |
Modelo 1: ArF-193 (dedicado para litografia de precisão) |
Modelo 2: KrF-248 (Processamento Geral) |
Modelo 3: XeCl-308 (modificação de superfície) |
Descrição do foco em aquisições |
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Comprimento de onda (nm) |
193 |
248 |
308 |
193 nm é adequado para semicondutores sub-mícrons; 248 nm equilibra precisão e custo; 308 nm é adequado para materiais orgânicos. |
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Energia de pulso (mJ) |
10-50 |
50-200 |
100-500 |
A alta energia garante uma ablação eficiente e reduz o tempo de processamento em 20%. |
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Taxa de repetição (Hz) |
100-1000 |
200-2000 |
50-600 |
2.000 Hz oferece suporte à produção-de alta velocidade, reduzindo os custos de inatividade do equipamento. |
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Potência Média (W) |
5-50 |
10-400 |
5-300 |
A potência da classe 400 W é adequada para operação 24 horas por dia, 7 dias por semana, com ROI mais rápido. |
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Largura de pulso (ns) |
10-20 |
15-25 |
20-30 |
O pulso curto minimiza o efeito do calor e melhora a integridade do material. |
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Tamanho do feixe (mm) |
12x26 (ajustável) |
12x28 |
15x30 |
A distribuição uniforme do feixe garante consistência de processamento e ausência de listras escuras. |
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Estabilidade energética (%) |
±0.5 |
±1.0 |
±1.5 |
A baixa volatilidade reduz a taxa de refugo e economiza de 5 a 10% nos custos de material. |
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Vida útil do gás (pulso) |
>10 ^ 8 (tecnologia exciPure) |
>5x10^7 |
>10^8 |
Estende 10 vezes o custo anual do gás<$5000. |
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Método de resfriamento |
Resfriado a água-/refrigerado a ar-opcional |
Resfriamento a água |
Resfriamento a água |
Dissipação de calor eficiente, suporta operação contínua, ciclo de manutenção de 6 meses. |
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Dimensões/Peso (kg) |
650x300x500 / 150 |
800x400x600 / 200 |
700x350x550 / 180 |
Design compacto, fácil de integrar em linhas de produção existentes. |
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Faixa de preço (USD) |
50,000-150,000 |
80,000-250,000 |
60,000-200,000 |
O nível-básico começa em US$ 50.000, desempenho de alto custo. |
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Garantia/Serviço |
1 ano de extensão de + 5 ano, diagnóstico remoto |
Igual à esquerda |
Igual à esquerda |
Rede global de serviços, tempo de resposta<24 hours. |
Características do Excimer Laser para venda
Faixa de comprimento de onda:Os lasers Excimer produzem comprimentos de onda na faixa de 157-353 nm, dentro da banda ultravioleta. Os comprimentos de onda típicos incluem 193 nm (ArF), 248 nm (KrF) e 308 nm (XeCl).
Energia e potência de pulso:Os lasers Excimer são caracterizados por alta energia de pulso (10-900 mJ) e alta potência média (até várias centenas de watts ou até mais). Por exemplo, alguns dispositivos têm energia máxima de pulso único de 1200 mJ e potência média máxima de 60 W.
Qualidade do feixe:A qualidade do feixe dos lasers excimer é relativamente ruim, com um fator M² maior que 10, significativamente menor que os lasers de fibra (M²≈1,05). No entanto, sua estabilidade pode ser melhorada com o emprego de técnicas como módulos de circulação de gás com temperatura-constante.
Resolução de processamento:Devido ao comprimento de onda curto e à alta energia de fótons dos lasers excimer, eles oferecem alta resolução de processamento, permitindo precisão de processamento em nível de mícron-e até mesmo de nanômetro-.
Tipo de Excimer Laser para venda
Lasers excimer-com bombeamento de elétrons
Esses lasers possuem energias de pulso extremamente altas (até o nível kJ), tornando-os adequados para pesquisas sob condições extremas, como fusão por confinamento inercial (ICF).
Descarregue-lasers excimer bombeados
Esses lasers usam descargas pulsadas de alta-tensão (como circuitos Blumlein) para excitar gases excimer e são atualmente a tecnologia dominante nas áreas industrial e médica.
Lasers excimer bombeados opticamente
Esses lasers usam outro laser (como um laser Nd:YAG) para bombear o gás excimer, alcançando a inversão populacional.
Aplicações de Excimer Laser para venda
Litografia de semicondutores:Os lasers excimer são fontes de luz cruciais na litografia de semicondutores, especialmente os lasers excimer KrF de 248 nm e ArF de 193 nm, que são amplamente utilizados na produção em massa de semicondutores em vários nós de processo.
Fabricação de tela plana:Na-fabricação de telas planas de última geração, o recozimento a laser excimer (ELA) usa um laser XeCl de 308 nm para transformar o substrato de um filme fino de silício amorfo em um filme fino de silício policristalino de alta-qualidade, melhorando assim o desempenho do TFT (transistor de filme-fino).
Microfabricação:Os lasers excimer também têm amplas aplicações em embalagens microeletrônicas, fabricação de redes de fibra óptica, micro-corte em cubos e micro{1}}perfuração. Sua característica de “processamento a frio” evita os efeitos térmicos e danos aos tecidos circundantes associados ao processamento a laser infravermelho.
Cirurgia Oftalmológica:O excimer laser ArF de 193 nm é amplamente utilizado em cirurgias oftálmicas a laser, como cirurgia refrativa da córnea. Sua energia de fóton único-é de 6,4 eV, enquanto a energia de ligação entre as ligações peptídicas e as cadeias de carbono no tecido da córnea humana é de apenas 3,4 eV.
Tratamento de doenças de pele:Os lasers excimer também podem ser usados para tratar doenças de pele como o vitiligo, alcançando efeitos terapêuticos ao induzir a apoptose em células doentes e promover a síntese de pigmentos.
O Excimer laser é um tratamento de fototerapia de nova geração para doenças como a psoríase. Tal como as opções de tratamento anteriores para a psoríase, o laser Excimer depende da luz ultravioleta para atingir a placa psoriática e outras áreas problemáticas, para curar a pele e reduzir futuros surtos.
No entanto, as versões anteriores da fototerapia contavam com caixas de luz especializadas que forneciam luz UV para todo o corpo. Para utilizar esta terapia, o paciente se despia, entrava na caixa e comprimentos de onda de luz especializados eram enviados para todo o corpo.
Os tratamentos com caixa de fototerapia tinham uma desvantagem inerente, pois tratavam o corpo inteiro. Isto foi um problema para alguns pacientes, uma vez que o tecido saudável foi exposto desnecessariamente à luz UV, embora a placa psoriásica estivesse presente apenas numa área; como os cotovelos ou o couro cabeludo. Além disso, os tratamentos com caixa de luz UV exigiram mais sessões.
O laser Excimer é uma melhoria significativa nos tratamentos de caixa de luz UV, pois permite o direcionamento preciso da psoríase, sem expor tecidos saudáveis à luz UV.
Segurança na Operação de Equipamentos
Segurança Elétrica
Os lasers Excimer exigem uma fonte de alimentação de alta-tensão de dezenas de milhares de volts. Toda alta tensão deve ser liberada antes da manutenção para evitar o risco de choque elétrico.
O equipamento deve estar equipado com um sistema de fonte de alimentação ininterrupta (UPS) para evitar perda de dados ou danos ao equipamento devido a cortes repentinos de energia.
Verifique regularmente o status do aterramento do equipamento para garantir uma proteção eficaz contra descargas eletrostáticas.
Gestão de Gás
Embora gases raros (como criptônio e argônio) não sejam{0}}tóxicos, a concentração de halogenetos (como flúor) no ar deve ser estritamente limitada (por exemplo, a concentração de flúor deve ser inferior a 1×10⁻⁸).
Verifique regularmente o sistema de fornecimento de gás para evitar vazamentos que possam causar envenenamento ou corrosão.
Controle de temperatura
A temperatura do gás da câmara de descarga afeta diretamente a estabilidade da energia do laser. Por exemplo, a temperatura operacional ideal para um excimer laser KrF é de aproximadamente 50 graus, e para um laser ArF, aproximadamente 60 graus.
Empregue um sistema de controle de temperatura de alta-precisão (como um algoritmo PID) para garantir que as flutuações de temperatura não excedam ±1 grau para prolongar a vida útil do equipamento e melhorar a estabilidade da saída.
Perguntas frequentes
Somos-conhecidos como um dos principais fabricantes e fornecedores de UV de 126 nm na China. Se você estiver indo para o atacado de 126 nm uv personalizado, bem-vindo para obter lista de preços e cotação de nossa fábrica. Para consulta de preços, contacte-nos.
